无锡吉致电子科技有限公司
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无锡吉致电子科技有限公司
- 联系人：李女士
- 所在行业：
- 经营模式：
- 主营产品：抛光液、抛光垫等CMP化学机械研磨抛光材料
- 所在地：江苏省无锡新吴区行创四路19-2
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132024/03
吉致电子蓝宝石研磨液CMP减薄工艺
蓝宝石研磨液/抛光液，是通过化学机械抛光技术（CMP Chemical Mechanical Polishing ） 用于蓝宝石衬底、窗口片的研磨和减薄，达到减薄尺寸、表面平坦化效果。 吉致
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132024/03
3C镜面抛光液用什么抛光液
3C产品表面镜面抛光一般不采用电解抛光方式，而是选择CMP机械抛光工艺。SiO2抛光液用于3C工件的镜面抛光工艺，主要由纳米级磨料制备而成，规格一般在10nm-150nm抛光后的产品镜面精度高，表面收
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132024/03
SIC碳化硅的化学机械抛光工艺
碳化硅Sic单晶生长之后是晶碇，而且具有表面缺陷，是没法直接用于外延的，这就需要加工。其中，滚圆把晶碇做成标准的圆柱体，线切割会把晶碇切割成晶片，各种表征保证加工的方向，而抛光则是提高晶片的质量。Si
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132024/03
吉致电子陶瓷基板抛光液
陶瓷基板材料的性能是陶瓷覆铜板性能的决定因素。目前，已应用作为陶瓷覆铜板基板材料共有三种陶瓷，分别是氧化铝陶瓷基板、氮化铝陶瓷基板和氮化硅陶瓷基板。吉致电子陶瓷基板抛光液能抛磨这3种陶瓷材料，并达到理
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132024/03
CMP抛光液厂家---苹果Logo专用抛光液
果粉们时常被MacBook，Iphone上闪闪发光的Apple Logo所惊艳到，那么手机和笔记本上的苹果Logo是如何实现镜面工艺的呢？苹果Logo采用了CMP化学机械平面抛光工艺，借助CMP设备、
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132024/03
不锈钢工件原始品质对CMP抛光效果的影响
不锈钢镜面抛光效果的优良，不仅取决于抛光方案设计、抛光耗材（CMP抛光液、抛光垫）选择和抛光参数设置，不锈钢抛光工件的原始品质也影响到最终的抛光的效果。当抛光效果不尽人意时，不仅要对抛光方案、所使用耗
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132024/03
铜化学机械抛光液---什么是TSV技术？
TSV全称为：Through -Silicon-Via，中文译为：硅通孔技术。它是通过在芯片和芯片之间、晶圆和晶圆之间制作垂直导通；TSV技术通过铜、钨、多晶硅等导电物质的填充，实现硅通孔的垂直电气互
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132024/03
什么是OX研磨液?吉致电子氧化层抛光液性能有哪些？
Oxide slurry 简称OX氧化物研磨液广泛用于氧化层材料的CMP抛光，抛光研磨后达到精准的表面平整度和厚度控制，如Si Wafer晶圆表面的氧化硅层或者上层金属与氧化硅之间的氧化硅层
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132024/03
如何解决氧化硅抛光液结晶问题
二氧化硅抛光液在抛光过程中会出现结晶结块的现象，虽然不是大问题但如果处理不当，很可能会导致工件表面划伤甚至报废，那么怎么解决氧化硅抛光液结晶问题呢？首先要了解硅溶胶抛光液的特点属性。二氧化硅抛光液是以
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132024/03
TSV抛光液---半导体3D封装技术Slurry
TSV全称为：Through -Silicon-Via，中文译为：硅通孔技术。它是通过在芯片和芯片之间、晶圆和晶圆之间制作垂直导通；TSV技术通过铜、钨、多晶硅等导电物质的填充，实现硅通孔的垂直电气互
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132024/03
钨钢用什么研磨液和抛光液
硬质合金也就是钨钢，在现代工业中的应用非常广泛，如钢铁、交通、建筑等领域对硬质合金的需求愈发旺盛，随着对深加工产品需求的高涨，硬质合金将向精深加工、工具配套方向发展;向超细、超粗及涂层复合结构等方向发
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132024/03
蓝宝石抛光用什么抛光液
在生产蓝宝石衬底的时候产生裂痕和崩边现象的比例比较高，占总比的5%-8%。我国蓝宝石批量生产的技术还很不成熟，切割完的蓝宝石晶片有很深的加工痕迹，抛光后易形成很深的麻坑或划伤。因此需要通过CMP研磨抛