无锡吉致电子科技有限公司
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无锡吉致电子科技有限公司
- 联系人：李女士
- 所在行业：
- 经营模式：
- 主营产品：抛光液、抛光垫等CMP化学机械研磨抛光材料
- 所在地：江苏省无锡新吴区行创四路19-2
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132024/03
半导体抛光液是什么？
半导体抛光液是什么http://www.jzdz-wx.com/？简单来说是抛光液通过化学机械反应，去除半导体工件表面的氧化层，达到光洁度和高平坦要求的化学液体。半导体CMP抛光液是超细固体研磨材料和
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132024/03
蓝宝石抛光液的成分
蓝宝石抛光液中的主要成分有磨料、表面活性剂、螯合剂、PH调节剂等。抛光液是影响CMP（化学机械抛光）效果最重要的因素之一，评价化学机械抛光液性能好坏的指标是流动性好，分散均匀，在规定时间内不能产生团聚
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132024/03
吉致电子 射频滤波器抛光液slurry厂家
射频滤波器发展至今，基本主要有两种构型，其中，一类是SAW滤波器（声表面波，Surface Acoustic Wave），另一类是BAW滤波器（体声波，Bulk Acoustic Wave），而BAW
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132024/03
碳化硅衬底抛光液的特点
碳化硅半导体晶片的制作一般在切片后需要用CMP化学机械抛光液进行抛光，以移除表面的缺陷与损伤。碳化硅（Sic）晶片以高纯硅粉和高纯碳粉作为原材料，采用物理气相传输法（PVT）生长碳化硅单晶，再在衬底上
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132024/03
碳化硅衬底CMP抛磨工艺流程
碳化硅衬底CMP化学机械抛光工艺需要用到吉致电子CMP抛光液http://www.jzdz-wx.com/和抛光垫，抛磨工艺一般分为3道流程：双面抛磨、粗抛、精抛。碳化硅衬底双面研磨：一般使用双面铸铁
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132024/03
金属手机边框的镜面抛光方法是什么？
手机金属外壳/手机边框材质一般为不锈钢、钛合金、铝合金等，如华为Iphone手机金属边框要达到完美的镜面效果需要精抛步骤----手机边框抛光液slurry的主要成份是二氧化硅，二氧化硅抛光液外观为乳白
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132024/03
吉致电子CMP不锈钢抛光液的特点
吉致电子CMP抛光液在不锈钢材料的表面精密加工工艺中，能够获得高亮度、无视觉缺陷的抛光效果，在手机、pad、数码相机等电子产品中有很好的应用。吉致电子不锈钢抛光液在实际应用中凭借高浓度、高稀释比例等卓
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132024/03
吉致电子浅槽隔离抛光液怎么用
吉致电子http://www.jzdz-wx.com/浅槽隔离抛光液适用范围：单晶硅、多晶硅的研磨抛光，存储器制程和背照式传感器(BSI)制程等。STI Slurry 适用于集成电
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132024/03
不锈钢抛光液的CMP镜面抛光
手机、电脑、平板电脑等移动终端设备，会用到不锈钢、钛合金、铝合金等金属材质，为了达到增强光泽度和平坦度，金属手机工件需要Logo抛光、摄像头保护件抛光、手机按键抛光、手机边框抛光等工艺流程。目前3C电
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132024/03
吉致电子--不锈钢工件的研磨抛光工序
不锈钢抛光液CMP抛光液，主要应用于不锈钢工件表面研磨抛光工艺，不锈钢抛光液一般有去粗、粗抛、中抛、精抛镜面四道流程。去粗工艺:不锈钢研磨液用较粗磨料配方液先去除表面刀痕、毛刺，切割线等痕迹，研磨去除
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132024/03
陶瓷覆铜板DPC/DBC研磨抛光液工艺
陶瓷覆铜板的制作工艺主要是DPC工艺和DBC工艺，DPC产品具备线路精准度高与表面平整度高的特性,非常适用于覆晶/共晶工艺,配合高导热的陶瓷基体,显着提升了散热效率,是最适合高功率、小尺寸发展需求的陶
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132024/03
吉致电子Slurry抛光浆料--阻挡层抛光液
目前，超大规模集成电路芯片的集成度已经达到了数十亿个元件，特征尺寸已经达到了纳米级，这就需要微电子技术中的数百道工序，尤其是多层布线、衬底、介质等必须通过CMP化学机械技术，抛光液和抛光垫磨抛达到平坦