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吉致电子---氧化硅抛光液的特点和作用

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氧化硅抛光液的主要成分是高纯二氧化硅粉,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光液。氧化硅溶液其实就是市面上的硅溶胶,当然是二次加工后的硅溶胶。因为硅溶胶是胶状的,不能直接研磨抛光。这项技术的主要应用是CMP半导体抛光。该技术在相对早期阶段就已存在,但市场应用范围较窄。

氧化硅外观为乳白色悬浮液,呈碱性、中性、酸性。一般时间长了不会有沉淀,但是暴露在空气中很快就会结晶,有一定的腐蚀性。不锈钢工件在二氧化硅环境中容易生锈,抛光工件时应及时清洗掉二氧化硅溶液。

硅溶胶抛光液主要运用在什么领域呢?现在抛光不锈钢、半导体、铝合金、铜等工件时用到氧化硅抛光液的机会还是很多的。原理主要是二氧化硅的表面积比较大,并且是一种软性抛光材料,去除率快抛磨亮度高,不会对工件造成二次划伤。

氧化硅悬浮液如何保存?氧化硅怕光怕热,在光性和高温环境下容易变质和结晶,产生异味、沉淀或者漂浮物,所以硅溶胶浆料是有保质期的,需要避光存放并在一年内使用完,存储不当或逾期使用会对工件和机台造成损伤。

吉致电子专业生产CMP抛光产品,氧化硅抛光液有成熟稳定的产品,可使用在金属或非金属工件的抛光工序中,有抛光相关问题欢迎咨询:17706168670 专业团队24小时为您服务!

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