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半导体抛光液是什么?

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半导体抛光液是什么http://www.jzdz-wx.com/?简单来抛光液通过化学机械反应,去除半导体工件表面的氧化层,达到光洁度和高平坦要求的化学液体。

半导体CMP抛光液是超细固体研磨材料和化学添加剂的混合物,制备成均匀分散的悬浮液,起到研磨、润滑和腐蚀溶解等作用,主要原料包括研磨颗粒、PH调节剂、氧化剂和分散剂等。

CMP化学机械抛光液的分类:

根据酸碱性可以分为:酸性抛光液和碱性抛光液、中性抛光液。

根据抛磨材质可以分为:金属抛光液和非金属抛光液。

根据抛光对象不同,抛光液可分为铜抛光液、钨抛光液、硅抛光液和钴抛光液等。

其中,铜抛光液和钨抛光液主要用于逻辑芯片和存储芯片制造过程。在 10nm 及以下技术节点中,钴将部分代替铜作为导线,硅抛光液主要用于硅晶圆初步加工过程中。

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此文关键字:半导体抛光液 CMP抛光液 金属抛光液 铜抛光液 钨抛光液 硅抛光液 


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