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吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点

发布时间:2024-03-13 13:15:29

吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点:

1,可提高工件抛光速率和平坦度加工质量,氧化硅抛光液硅溶胶抛光液采用高纯纳米二氧化硅(SiO2)磨料及多种复合材料配置而成,不会对工件造成物理损伤,抛光率高。

2,利用均匀分散的胶体二氧化硅粒子颗粒达到高速抛光的目的。

3,硅溶胶纯度高,化学机械抛光液不腐蚀设备,无毒无害使用安全性能高。

4,CMP抛光液可实现工件的高平坦化加工。

5,有效减少抛光后的表面划痕,降低表面粗糙度。

吉致电子通过科学工艺分散均匀的氧化硅颗粒,得到均匀分散的纳米抛光液,具有高强度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐磨性等特点,是一种性能优良的CMP技术用的抛光材料。采购CMP集成电路抛光液认准吉致电子抛光液生产厂家

无锡吉致电子科技有限公司

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