磨料在CMP抛光液中的作用

无锡吉致电子科技有限公司

发布时间：2024-03-13 13:14:23

抛光磨料是CMP集成电路抛光液中的主要成分，在抛光过程中通过微切削、微擦划、滚压等方式作用于工件表面，达到机械去除材料的作用。

化学机械抛光液根据磨料成分一般分为单一磨料抛光液，混合磨料抛光液，复合磨料抛光液

磨料在CMP抛光过程中起到的作用为：

（1）机械作用的实施者，起机械磨削作用；

（2）传输物料的功能，不仅将新鲜浆料传输至抛光垫与被抛材料之间，还将反应物带离材料表面，使得材料新生表面露出，进一步反应去除。

所以选择CMP化学机械抛光液slurry时记得考虑分散性好，流动性好，硬度适中，易于清洗的抛光液产品，选择靠谱抛光液厂家很重要！有相关问题可以咨询吉致电子17706168670。

无锡吉致电子科技有限公司

联系电话：17706168670

邮编：214000

地址：江苏省无锡市新吴区行创四路19-2

此文关键字：抛光液 CMP抛光液抛光磨料抛光液厂家吉致电子抛光液