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CMP抛光液---复合磨料抛光液

发布时间:2024-03-13 13:12:16

复合磨料抛光液
  CMP化学机械抛光液产品除了混合磨料外,也有利用各种新兴材料制备复合磨料,常用的方法有纳米粒子包覆和掺杂等。如通过结构修饰改善纳米粒子的分散性、复合其他类型材料提升在酸、碱性抛光液中的综合性能等。
 复合磨料抛光液相比混合磨料和单一磨料,在材料去除率及表面粗糙度方面均有明显的优势,能实现纳米级或亚纳米级超低损伤的表面形貌,主要适用制备成半导体抛光液。但复合磨料的制备工艺相对比较复杂,目前仅处于实验室探索阶段,距离复合磨料在大规模生产上的应用还有较远的距离。

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