吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。
吉致电子氧化铈抛光液纯度高，氧化铈含量比重高，分散性好、乳液均匀悬浮性好。切削能力强、抛光精度高、使用寿命长。
吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面
无锡吉致电子25年研发生产—— 铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry/铝合金CMP抛光液/铝合金化学机械抛光液/铝合金lapping研磨抛光液/铝合金化学机械抛光液Slurry/铝合金CMP集成电路抛光液/JEEZ铝合金抛光液
吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优点。
STI Slurry 适用于集成电路当中的铜互连工艺制程中铜的去除和平坦化。 具有高的铜去除速率，碟型凹陷可调，低缺陷等特性。可应用于逻辑芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量产使用。清除集成电路中铜抛光后表面的抛光颗粒和化学物残留，以防铜表面腐蚀，降低表面缺陷。
无锡吉致电子25年研发生产—— Apple Logo镜面抛光液、手机Logo抛光液、铝合金抛光液、金属抛光液、CMP抛光液、平面研磨抛光液、手机logo化学机械抛光液、CMP化学机械抛光液Slurry、CMP集成电路抛光液、手机logo slurry
为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度
无锡吉致电子JEEZ不锈钢抛光液是为不锈钢模具及电子器件、不锈钢手机边框、手机金属外壳抛光、手机按键抛光、苹果Logo抛光等配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了不锈钢工件表面去除率和平坦化性能
