研磨液通常由表面活性剂、PH调节剂、分散剂、螯合剂等组分组成，各组发挥不同的作用。通过化学原理对工件表面进行化学腐蚀，然后在研磨液中高速运动的磨料对工件表面的磨削及挤压等综合作用下，实现对工件表面的抛磨加工。CMP化学抛光液具体作用可以归纳为5点，吉致电子小编给您介绍一下吉致CMP研磨液的作用。

吉致电子研磨液被搅拌均匀后，少量滴入研磨盘内部，在研磨抛光过程时抛光液会粘附在工件与合成磨盘的表面，其作用如下：

①研磨液具有软化作用：即对金属表面氧化膜的化学作用，使其软化，易于从表面研磨除去，以提高研磨效率。

②研磨液具有防锈作用：研磨加工后的工件，未清洗前具有短时防锈作用。

③研磨液具有缓冲作用：在高速抛磨运转中，与水一起搅动，会缓解工件之间的相互撞击。

④研磨液具有润滑作用：象润滑油一样，在研磨块和金属工件之间起润滑作用，从而得到光洁的表面。

⑤研磨液具有洗涤作用：像洗涤剂一样，能除去金属无件表面的油污。

吉致电子研磨液产品如：金刚石研磨液适用于玻璃、陶瓷、硬质合金、天然钻石、宝石等高硬度材料制成的量具、刃具、光学仪器和其他高光洁度工件的加工。

具体的CMP抛光液磨料配方和研磨液产品还需要结合抛光工件的材质、形状、规格和抛磨参数要求做相应方案。

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